$Ta(OC_2H_5$)5와 $NH_3$를 이용한 탄탈륨 산화막의 원자층 단위 증착 및 특성에 관한 연구

• 송현정 (한국과학기술원 재료공학과) ;
• 심규찬 (한국과학기술원 재료공학과) ;
• 이춘수 (지니텍(주)) ;
• 강상원 (한국과학기술원 재료공학과)

• Published : 1998.02.01

• PDF