Proceedings of the Korea Crystallographic Association Conference (한국결정학회:학술대회논문집)

Korean Crystallographic Association (한국결정학회)
권호 표지

Structural characterization of oxynitride films by synchrotron x-ray reflectivity analysis

방사광 X-선 반사도론 이용한 oxynitride 나노박막의 두께와 계면 거칠기 측정

  • 장창환 (포항산업 과학연구원 재료물성분석팀) ;
  • 주만길 (포항산업 과학연구원 재료물성분석팀) ;
  • 신광수 (포항산업 과학연구원 재료물성분석팀) ;
  • 오원태 (포항공과대학교 화학과) ;
  • 이문호 (포항공과대학교 화학과)
  • Published : 2002.11.01
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Abstract

방사광 X-선 반사도를 이용하여 나노 스케일의 두께를 가진 oxynitride 박막의 계면 구조 및 두께를 측정하였다. Oxynitride 박막에서 nitrogen 분포의 분석은 두께가 극도로 얇아지는 요즘의 반도체 제작에서 매우 중요한 과제로 대두되고 있다. (1) X-선 반사도 측정을 분석하여 박막 깊이에 따른 전자밀도분포와 계면에서의 거칠기 및 각 층의 두께가 결정되었다. X-선 반사도 측정 분석으로부터 Nitrogen은 SiO₂와 Si substrate 계면에 위치하며, 화학조성분포와 층 구조의 상관성을 SIMS를 이용한 조성분포 측정과 비교하였다.

Keywords