Journal of the Korean Vacuum Society (한국진공학회지)
- Volume 3 Issue 4
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- Pages.405-413
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- 1994
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- 1225-8822(pISSN)
In situ Epitaxial Growth of the $TiSi_2$ on si(111)-7$\times$ 7 Substrate by Codeposition
동시증착에 의한 Si(111)-7$\times$ 7 기판 위에 $TiSi_2$ 에피택셜 성장
Abstract
초고진공에서 기판 Si(111)-7
Keywords