여러 자리 산소-질소계 시프염기 리간드 구리(II) 착물의 전기화학적 특성

Electrochemical Properties of Copper(II) Complexes with Multidentate N,O-Schiff Base Ligands

산소-질소를 포함하는 여러 자리 시프염기 리간드인 비스-살리실알데히드-에틸렌디이민(SED), 비스-살리실알데히드-프로필렌디이민(SPD), 비스-살리실알데히드-디에틸렌트리이민(SDT), 비스-살리실알데히드-트리에틸렌테트라이민(STT) 및 비스-살리실알데히드-테트라에틸 렌펜타이민(STP) 등을 합성하고 이들 리간드들을 에탄올과 70% 디옥산 수용액에서 전위차법으로 넷, 다섯 및 여섯 단계의 양성자 해리상수값을 구하였다. 구리(II)-시프염기 착물의 안정도상 수값의 크기는 Cu(II)-SPD${\leq}$Cu(II)-SED~STT${\leq}$Cu(II)-STP 순서로 음전위쪽으로 이동하였다. Cu(II)-시프염기 착물의 산화-환원 과정은 일전자 반응이었다.

Algal(II) Multidentate N, O-Schiff base ligands, such as bis(salicylaldehyde) ethylenediimine(SED), bis(salicylaldehyde) propylenediimine(SPD), bis(salicylaldehyde) diethylenetriimine(SDT), bis (salicylaldehyde) triethylenetetraimine(STT) and bis(salicyl-aldehyde)tetraethylenepentaimine(STP) were prepared. Stepwise proton dissociation constants of the Schiff base were measured potentiometrically in ethanol and a mixture of 70% dioxane and 30% $H_2O$. The stability constants of copper(II)-Schiff base complexes were in the order of Cu(II)-SPD${\leq}$Cu(II)-SED~STT${\leq}$Cu(II)-STP. Oxidation-reduction process of the Cu(II)-Schiff base complexes was involved with one-electron reaction.