Abstract
The magnetic thin films can be prepared without vacuum process and under the low temperature(<100 $^{\circ}C$) by ferrite plating. We have performed ferrite plating of $Ni_xFe_{3-x}O_4$ (x=0.162~0.138) films on cover glass at the substrate temperature 80 $^{\circ}C$ and pH range of the oxidizing solution, 7.1~8.8. the crystal structure of the samples has been identified as a single phase of polycrystal spinel structure by x-ray diffraction technique. The deposition rate and the grain size of the film increased with the pH of oxidizing solution. The coercive force (H_C)$ decreased with the pH of oxidizing solution.
페라이트 도금 방법은 진공이 불필요하며 저온(<10$0^{\circ}C$)에서 페라이트 박막을 제작할 수 있다. 이 방법으로 기판온도 8$0^{\circ}C$, 산화용액의 pH 7.1~8.8 영역에서 모두 스피넬 구조의 NixFe3-xO4 (x=0.162~0.138) 박막을 얻었다. 이들은 열처리를 하지 않았음에도 불구하고 결정성이 우수한 다결정의 박막을 얻었다. 박막의 성장속도는 산화용액의 pH가 7.1에서 8.8까지 변함에 따라 성장속도가 143$\AA$/min에서 255 $\AA$/min 까지 증가하였다. 산화용액의 pH가 증가할수록 입경의 크기가 증가하고, 보자력은 감소하였다.
