A Study on the I-V characteristics of a delta doped short-channel HEMT

단채널 덱타도핑 HEMT의 전압-전류 특성에 대한 2차원적 해석

  • 이정호 (홍익대학교 전자공학과) ;
  • 채규수 (천안대학교 정보통신학부) ;
  • 김민년 (천안대학교 정보통신학부)
  • Published : 2004.08.01

Abstract

In this thesis, an analytical model for Ⅰ-Ⅴ characteristics of an n-AlGaAs/GaAs Delta doped HEMT is proposed. 2-dimensional electron gas density, and conduction band edge profile are calculated from a self-consistent iterative solution of the Poisson equation. Parameters, e.g., the saturation velocity, 2-dimensional electron gas concentration, thickness of the doped and undoped layer(AlGaAs, GaAs, spacer etc.,) are in good agreement with the independent calculations.

본 논문은 HEMT소자의 전류-전압특성을 해석적으로 모델링한 것으로 n-AlGaAs층의 전자농도를 고려하여 Gauss법칙과 비선형 전하제어모델을 이용하여 2DEG의 전자농도를 구하였고, 채널을 부분적으로 2차원적으로 해석하여 포화전압을 도출하였고, 계산된 결과는 n-AlGaAs의 전자농도를 고려하지 않은 결과와 비교하였을 때 비교적 정확한 전류전압특성을 보이고 있다

Keywords