Observation of the silicon acrylate effect on the photo-polymerization reaction using micro raman spectroscopic technique

마이크로 라만을 사용한 실리콘 아크릴레이트가 광중합 반응에 미치는 영향 관찰

  • Oh, HyangRim (School of Science Education, Chosun University) ;
  • Hong, Jin-Who (Department of Polymer Science, Chosun University) ;
  • Yu, Jeong-A (School of Science Education, Chosun University)
  • 오향림 (조선대학교 과학교육학부) ;
  • 홍진후 (조선대학교 고분자공학과) ;
  • 유정아 (조선대학교 과학교육학부)
  • Received : 2004.05.14
  • Accepted : 2004.06.05
  • Published : 2004.06.25

Abstract

The effect of the silicon acrylate as a reactive additive on the UV-curing photopolymerization reaction was studied by micro raman technique. For the study, acrylate systems and Darocur 1173 were used as oligomer and monomers, and a photo initiator, respectively. The content of silicon acrylate was within the range of 0-3 wt%. The extent of photo-polymerization reaction as a function of depth from the air interface was obtained from the conversion ratio of acrylate double bond calculated from the intensities of measured bands at $1410cm^{-1}$ and at $1635cm^{-1}$. Micro raman spectroscopic technique can be an useful tool for the investigation of the factors, which can affect the reaction progress, such as oxygen inhibition, composition of the formulations, depth, etc.

UV 경화반응에 의하여 형성된 코팅의 성질을 향상시키기 위하여 첨가제로 사용한 실리콘 아크릴레이트가 광중합 반응에 미치는 영향을 마이크로 라만 분광법을 사용하여 관찰하였다. 광중합 반응의 반응체는 아크릴계 올리고머와 모노머를 사용하였으며 광 개시제로는 Darocur 1173을 사용하였다. 첨가제 실리콘 아크릴레이트는 광 경화 수지에 각각 0-3 wt% 첨가하였으며, UV를 조사하여 중합 반응시킨 후 공기-박막 경계면으로부터 두께에 따른 라만 스펙트럼을 관찰하였다. 광중합 반응의 진행정도는 1410과 $1635cm^{-1}$에 나타나는 중합에 직접 관여하는 아크릴기 ($-C=CH_2$)와 관련된 띠의 세기로부터 구하였다. 관찰된 결과에 따르면 마이크로라만으로부터 얻은 심도 스펙트럼 (depth profile)은 두께에 따른 경화반응의 진행 정도를 관찰할 수 있을 뿐만 아니라 경화 반응에 미치는 여러 요인에 대한 이해를 돕는 좋은 방법이 될 수 있음을 알 수 있다.

Keywords

References

  1. C. Roffey, 'Photogeneration of reactive species for UV curing', John-Wiley & Sons Ltd., 1997.
  2. J. P. Fouassier, 'Photoinitiated polymerisation : theory and applications' Shropshire, U.K. : Rapra Technology, 1998.
  3. J. W. Hong, H. K. Kim and J. O. Choi, J. Appl. Polm. Sci., 76, 1805(2000)
  4. H. K. Kim, M. Y. Park, J.-A Yu and J. W. Hong, J. Korean Ind. Eng. Chem., 12, 444(2001)
  5. J. W. Hong, H. K. Kim, J.-A Yu and Y. B. Kim, J. Appl. Polm. Sci., 84, 132(2002).
  6. U. Müller, S. Jockusch, H.-J. Timpe, J. Polym. Sci. A Polym. Chem., 30, 2755(1992).
  7. D. Kim, S. Lee, K. Doh, Y. Nam, J. Appl. Polym. Sci., 74, 2029(1999).
  8. S. Paul, 'Silicon resins in surface coating', p.200, Wiley, New York, U.S.A., 1985.
  9. H. Liu, M. Chen, Z. Huang, K. Xu, X. Zhang, Eur. Polymer J., 40, 609(2004).
  10. B. Schrader, 'Infrared and Raman Spectroscopy:Methods and Applications', B. Schrader, VCH Weinheim Germany, 1995.; T. Scherzer, U. Decker, Vibrational Spectroscopy 19, 383(1999).
  11. J.-P. Fouassier, 'Photoinitiation, photopolymerization and photocuring: Fundamentals and applications', Hanser/Gardner Pub., Inc., Ohio U.S.A., 1995.
  12. M. Ohyanagi, H. Nishide, K. Suenaga, E. Tsuchida, Polym. Bull. 23, 637(1990).
  13. U. Muller, J. Macromol. Sci., Pure Appl. Chem. A 33, 33(1996).
  14. K. Moussa, C. Decker, J. Polymer Sci. A: Polymer Chem. 31(10), 42(1993).