CoNi alloy films prepared from electrolytes with various concentrations of cobalt ions were studied in the paper. Influences of different cobalt ions concentrations on electrochemistry processes, components, microstructures, surface morphologies and magnetic properties of CoNi films were investigated. It was found that CoNi film plating was a kind of anomalous codeposition process. The percentage of cobalt content in CoNi films was higher than that of in the electrolyte. Moreover, with the rise of cobalt ions concentrations, the percentage of cobalt content in the samples increased gradually. CoNi films possessed crystal structures with four stronger diffraction peaks. However, CoNi films prepared from bath with higher cobalt ions possessed hcp structures which contributed to dendrite structures resulting in the increase of coercivity.
Material degradation such as high temperature oxidation of metallic material is a severe problem in energy generation systems or manufacturing industries. The metallic materials are oxidized to form oxide films in high temperature environments. The oxide films act as diffusion barriers of oxygen and metal ions and thereafter decrease oxidation rates of metals. The metal oxidation is, however, accelerated by mechanical fracture and spalling of the oxide films caused by thermal stresses by repetition of temperature change, vibration and by the impact of solid particles. It is therefore very important to investigate mechanical properties and adhesion of oxide films in high temperature environments, as well as the properties in a room temperature environment. The oxidation tests were conducted for Ni and Ni-Co alloy under high temperature corrosive environments. The hardness distributions against the indentation depth from the top surface were examined at room temperature. Dynamic indentation tests were performed on Ni oxide films formed on Ni surfaces at room and high temperature to observe fractures or cracks generated around impact craters. As a result, it was found that the mechanical property as hardness of the oxide films were different between Ni and Ni-Co alloy, and between room and high temperatures, and that the adhesion of Ni oxide films was relatively stronger than that of Co oxide films.
Ni oxide thin films with thermal sensitivity superior to Pt and Ni thin films were formed through annealing treatment after Ni thin films were deposited by a r.f. magnetron sputtering method. Resistivity values of Ni oxide thin films were in the range of $10.5{\mu}{\Omega}cm$ to $2.84{\times}10^{4}{\mu}{\Omega}cm$ according to the degree of Ni oxidation. Also temperature coefficient of resistance(TCR) values of Ni oxide thin films depended on the degree of Ni oxidation from 2,188 ppm/$^{\circ}C$ to 5,630 ppm/$^{\circ}C$ in the temperature range of $0{\sim}150^{\circ}C$. Because of the high linear TCR and resistivity characteristics, Ni oxide thin films exhibit much higher sensitivity to flow and temperature changes than pure Ni thin films and Pt thin films.
Fe-Co-Ni particles with an average size of 45 and 135 nm are characterized in terms of magnetic phase transformation and magnetic properties at room temperature. BCC structure of Fe-Co-Ni spherical particles can be synthesized from Fe-Co-Ni-Al-Cu precursor films by heating at 600-80$0^{\circ}C$ for the phase separation of Fe-Co rich Fe-Co-Ni particles, followed by a post heating at $600^{\circ}C$ for 5 hours. The average size of nanoparticles was directly determined by the thickness of precursor films. Exchange interactive hysteresis was observed for the nano-composite (Fe-Co-Ni)+(Fe-Ni-Al) films resulting from the short exchange interface between ferromagnetic Fe-Co-Ni particles surrounded by almost papramagnetic Ni-Al-Fe matrix. Arraying the isolated Fe-Co-Ni nano-particles in a random arrangement on $Al_2O_3$substrate the particle assembly showed a behavior of dipole interactive ferromagnetic clusters depending on their volume and inter-particle distance.
Kim, Woo-Sik;Choi, Sun-Hee;Lee, Hae-Weon;Kim, Joo-Sun
Journal of the Korean Ceramic Society
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v.43
no.11
s.294
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pp.746-750
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2006
NiO films and Ru co-sputtered NiO films were deposited by reactive magnetron sputtering for micro-solid oxide fuel cell anode applications. The deposited films were reduced to form porous films. The reduction kinetics of the Ru doped NiO film was more sluggish than that of the NiO film, and the resulting microstructure of the former exhibited finer pore networks. The possibility of using the films for the anodes of single chamber micro-SOFCs was investigated using an air/fuel mixed environment. It was found that the abrupt increase in the resistance is suppressed in the Ru co-sputtered film, as compared to undoped film.
We have studied the magnetoresistance phenomena on spin valve thin films of antiferromagnetic NiO/CoO. Interlayer coupling oscillates between the antiferrocoupling and ferrocoupling with the variation of Cu thickness. The exchange coupling strength between NiO (antiferromagnetic) and NiFe(ferromagnetic) as a function of NiO texture and interface roughness is investigated by CoO insertion. CoO has significantly higher anisotropy in the (111) plane and interface roughness. It seems that the MR-ratio is increased by CoO inserted films. From the AFM and XRD data, the increase of MR-ratio and exchange field is influenced by the roughness of CoO.
Exchange coupled $NiFe/TbCo/Sio_{2}$ thin films for magnetoresistive heads were sputter deposited using RF diode sputtering method, and their magnetic characteristics were measured. TbCo films were deposited using a composite target, which is composed of Tb chips epoxied on a Co target. NiFe($400\AA$)/TbCo($1500\AA$)/$SiO_{2}$($500\AA$) films were deposited using a TbCo target having 30 % of Tb area ratio, which showed 25 Oe of the exchange field without substrate bias and 12 Oe with -55 V of substrate bias. The effective in-plane coercivities of the three layer films fabricated with less than -55 V of substrate bias were approximately proportional to the perpendicular coercivities of the TbCo layer only. The films fabricated with a Theo target of 28 % area ratio showed the same trend. However, the exchange field decreased to 4 Oe without the substrate bias and 7 Oe with -55 V of substrate bias. In the films fabricated with 1000 W of power and the target of 36 % area ratio exhibited 100 Oe of exchange field and 3 Oe of coercivity. As the thickness of NiFe layer increased, the exchange field decreased.
$NiO{\cdot}(Co_{0.25}Mn_{0.75})_2O_3$(Mn-Ni-Co) and $Ba_{0.5}Sr_{0.5}TiO_3$(BST) thick films were screen printed on Pt patterned alumina substrate to investigate the effects of sintering temperature on humidity and temperature sensing properties of ceramic sensors. A raise in sintering temperature increased resistance and B constant of the Mn-Ni-Co temperature sensor. This may have derived from the synergic effects of the reduction in charge carriers caused by the substitution of Co for Mn as well as the formation of microcracks from the difference in thermal expansion coefficients. Dependence of resistance on humidity of the Mn-Ni-Co temperature sensor, however, was not found. BST films sintered at temperatures in the range of $1100^{\circ}C$ to $1150^{\circ}C$ showed excellent humidity sensing properties. The BST humidity sensor was faster in its response than the Mn-Ni-Co temperature sensor. The humidity sensor, however, proved to be unstable under various temperatures, suggesting a need for a temperature stabilizing device. In contrast, the Mn-Ni-Co temperature sensor was stable under humid conditions.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.53
no.1
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pp.1-8
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2020
Sulfamate-chloride baths were fabricated to study the properties of the electrodeposited Ni and NiCo thin films. The dependences of current efficiency, deposit composition of Ni and Co, residual stress, surface morphology and microstructure of electrodeposited Ni and NiCo thin films on CoCl2 concentration in sulfamate-chloride baths were investigated. The current efficiency was measured to be more than about 90%, independent of the changes of CoCl2 concentration in the baths. Residual stress of Ni and NiCo thin films was increased from about 45 to about 250 MPa with varying CoCl2 concentration from 0 to 0.210 M CoCl2 in the baths and then reached to a plateau, about 250 MPa above 0.420 M CoCl2 concentration. Nodular surface morphologies were observed at most CoCl2 concentrations in the baths except 0.210 M. NiCo thin film electrodeposited from the bath with 0.210 M CoCl2 concentration showed an acicular surface morphology. Pure Ni thin film consists of FCC(111), FCC(200), FCC(220), and FCC(311) peaks without any preferred orientation. On the other hand NiCo thin films make up of HCP(100), FCC(111), HCP(101), FCC(200), FCC(220) or HCP(110), FCC(311) or HCP(112) and FCC(222) peaks. It was revealed from the analysis of XRD result that FCC(111) peak at the NiCo thin film electrodeposited from the bath with 0.084 M CoCl2 concentration can be regarded as the preferred orientation. However the peak of the preferred orientation was changed to FCC(220) or HCP(110) above 0.084 M CoCl2 concentration in the baths. Then the intensity of FCC(220) or HCP(110) peak was gradually decreased with increasing CoCl2 concentration further. The crystalline size of pure Ni thin film was observed to be about 53 ㎛ and those of NiCo thin films were in the range of 35~45 ㎛.
NiFe(60 $\AA$)/Co(0$\AA$$\leq$x$\AA$$\leq$15$\AA$)/Cu(60$\AA$)/Co(30$\AA$) spin valve thin films were prepared on 4$^{\circ}$ tilt-cut Si(111) substrates with a 50 $\AA$ thick Cu underlayer without applying any external magnetic field during the deposition, and the effects of inserted ultrathin Co layer on magnetic anisotropy and GMR properties of the NiFe(60 $\AA$)/Cu(60$\AA$)/Co(30$\AA$) spin valves were investigated. As the ultrathin Co layer was inserted into the NiFe/Cu interface of the spin valves, GMR ratio was increased from about 1.5% to 3.5%, and the easy axis of NiFe(60 $\AA$) layer was rotated by 90$^{\circ}$. Accordingly, it was aligned along the same direction with the easy axis of Co(30 $\AA$)layer. Therefore, squared R-H curves was obtained in the spin valves, which is favorable properties for the digital GMR devices such as MRAM. In order to investigate the change of magnetic anisotropy of NiFe layer of the spin valves in more details,XRD measurement was performed using NiFe(500 $\AA$) and NiFe(500 $\AA$)/Co(10 $\AA$) thin films on the same templates. Strong (220) NiFe peak was observed in both films regardless of the inserted Co layer, so it was thought that the variation of magnetic anisotropy of NiFe layer is from the interface effect, the change of interface from NiFe/Cu to NiFe/Co, rather than the volume effect such as the change of magnetocrystalline effect.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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