• 제목/요약/키워드: Gate

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나노 구조 Double Gate MOSFET 설계시 side gate의 최적화 (Optimization of Side Gate in the Design for Nano Structure Double Gate MOSFET)

  • 김재홍;고석웅;정학기
    • 한국정보통신학회:학술대회논문집
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    • 한국해양정보통신학회 2002년도 추계종합학술대회
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    • pp.490-493
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    • 2002
  • 본 논문에서는 main gate와 side gate를 갖는 double gate MOSFET의 side gate 길이와 side gate 전압에 대한 최적의 값을 조사하였다. main gate 50nm에서 각각의 side gate 길이에 대한 최적의 side gate 전압은 대략 3V이다. 또한, main gate 길이에 대한 최적의 side gate 길이는 대략 70nm이다. 이때, side gate 길이에 대한 전달 컨덕턴스 및 subthreshold slope에 대한 값들을 나타내었다. 이때 소자의 특성 분석을 위해 ISE-TCAD를 사용하여 시뮬레이션 하였다.

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Double gate MOSFET의 C-V 특성 (Characteristics of C-V for Double gate MOSFET)

  • 나영일;김근호;고석웅;정학기;이재형
    • 한국정보통신학회:학술대회논문집
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    • 한국해양정보통신학회 2003년도 추계종합학술대회
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    • pp.777-779
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    • 2003
  • 본 논문에서는 main gate와 side gate를 갖는 double gate MOSFET의 C-V 특성을 조사하였다. Main gate 전압을 -5V에서 +5V까지 변화시킴으로써 main gate 길이가 50nm이고, side gate 길이가 70nm인 MOSFET의 C-V 특성을 조사하였다. 또한, Main gate 길이가 50nm인 double gate MOSFET의 side gate의 길이를 40nm에서 90nm로 변화시키면서 C-V 곡선을 비교ㆍ분석하였다. Side gate 길이가 줄어들수록 전달컨덕턴스는 증가하고, 커패시턴스는 감소하는 경향을 나타내었다. 게이트 전압이 1.8V일 때, side gate의 영향으로 C-V곡선에 굴곡이 나타났으며, 소자의 특성 분석을 위해 ISE-TCAD를 사용하여 시뮬레이션 하였다.

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Main gate와 side gate 산화층 두께에 따른 DC MOSFET의 전기적 특성에 관한 연구 (A study on electrical characteristics by the oxide layer thickness of main gate and side gate)

  • 나영일;고석웅;정학기;이재형
    • 한국정보통신학회:학술대회논문집
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    • 한국해양정보통신학회 2004년도 춘계종합학술대회
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    • pp.658-660
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    • 2004
  • 본 논문에서는 DG MOSFET의 main gate와 side gate사이의 산화층 두께, 그리고 main gate와 Si 기판 사이의 산화층 두께를 변화시킴으로써 전기적 특성을 조사하였다. Main gate와 side gate사이의 간화층 두께가 4nm이고 main gate와 Si 기판사이의 산화층 두께가 3nm일 때 최적의 전기적 특성을 보였다. 이때, side gate 전압은 3V, 그리고 drain 전압은 1.5V를 인가하였다. 결과적으로 DG MOSFET의 전기적 특성은 main gate와 side gate 사이의 산화층 두께보다 main gate와 Si기판사이의 산화층 두께가 중요함을 알았다.

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Side gate 길이에 따른 Double gate MOSFET의 C-V 특성 (Side gate length dependent C-V Characteristic for Double gate MOSFET)

  • 김영동;고석웅;정학기;이종인
    • 한국정보통신학회:학술대회논문집
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    • 한국해양정보통신학회 2004년도 춘계종합학술대회
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    • pp.661-663
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    • 2004
  • 본 논문에서는 main gate와 side gate를 갖는 double gate MOSFET의 C-V 특성을 조사하기 위하여 side gate 길이와 side gate 전압을 변화시켜 조사하였다. Main gate 전압은 -5V에서 +5V까지 변화시켰으며, main gate 길이가 50nm, side gate 길이가 70nm, side gate 전압이 3V, drain 전압이 2V일때 우수한 C-V 특성을 얻었다. 이 때 소자의 특성 분석을 위해 ISE-TCAD를 사용하여 시뮬레이션 하였다.

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동작 온도에 따른 Double Gate MOSFET의 전류-전압특성 (Temperature-dependent characteristics of Current-Voltage for Double Gate MOSFET)

  • 김영동;고석웅;정학기
    • 한국정보통신학회:학술대회논문집
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    • 한국해양정보통신학회 2003년도 춘계종합학술대회
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    • pp.693-695
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    • 2003
  • 본 논문에서는 main gate와 side gate를 갖는 double gate MOSFET의 동작 온도에 따른 전류-전압 특성을 조사하였다. main gate와 side gate 길이는 각각 50nm, 70nm로 하였으며, main gate와 side gate 전압이 각각 1.5V, 3.0V일 때 온도 변화에 따른 전류-전압 특성을 조사하였다. 실온에서보다 77K일 때가 전류-전압 특성이 우수하였으며, 이때 소자의 특성 분석을 위해 ISE-TCAD를 사용하여 시뮬레이션 하였다.

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배수갑문 테인터 게이트(Tainter Gate)의 진동현상에 관한 모형실험 ( I ) - 문비 밖에서 안으로의 흐름 - (Model Tests Study on Flow-induced Vibration of fainter Gate in Estuary Sulices (I) - Flow from the Gate Outside to the Gate Inside -)

  • 이성행
    • 한국농공학회논문집
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    • 제46권1호
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    • pp.27-34
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    • 2004
  • A model test is carried out to investigate flow-induced vibration of a Tainter gate in estuary sulices. The gate model scaled with the ratio of 1:25 is made of acryl panel dimensioned 0.66m in width, 0.5m in height in the concrete test flume. Firstly, natural frequencies of the model gate are measured and the results are compared with the numerical results in order to verify the model. The amplitudes of the vibration are measured under the different gate opening and water level conditions in flow from the gate outside to the gate inside. Also 5 revised gate models with bottom width increased 0.5 cm each are tested under the different gate opening and water level. The results are analyzed to study the characteristics of the gate vibration. These test results are assessed in comparison with formerly test results, as a result, presents a design method of Tainter gate to reduce the gate vibration and a basic data for the guide manuals of gate management.

Double Gate MOSFET의 RF특성분석 (Analysis of Radio Frequency characteristics for Double Gate MOSFET)

  • 김근호;고석웅;정학기
    • 한국정보통신학회:학술대회논문집
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    • 한국해양정보통신학회 2003년도 춘계종합학술대회
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    • pp.690-692
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    • 2003
  • 본 논문에서는 main gate 50nm를 갖는 double gate MOSFET에서 side gate의 길이변화에 따른 주파수 특성을 조사하였다. side gate길이가 감소할수록 컷오프 주파수는 증가하는 것을 볼 수 있었다. 결과적으로 side gate 길이가 70nm일 때 최적의 동작 특성을 보였으며, 이때 컷오프 주파수는 41.4GHz로 매우 높은 컷오프 주파수를 갖음을 알았다.

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a-Si Gate 구동회로의 Stepwise Gate 신호적용에 대한 연구 (A Study on Application of Stepwise Gate Signal for a-Si Gate Driver)

  • 명재훈;곽진오;이준신
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제21권3호
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    • pp.272-278
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    • 2008
  • This paper investigated the a-si:H gate driver with the stepwise gate signal. In 1-chip type mobile LCD application the stepwise gate signal for low power consumption can be used by adding simple switching circuit. The power consumption of the a-Si:H gate driver can be decreased by employing the stepwise gate signal in the conventional circuit. In conventional one, the effect of stepwise gate signal can decrease slew rate and increase the fluctuation of gate-off state voltage, In order to increase the slew rate and decrease the gate off state fluctuation, we proposed a new a-Si:H TFT gate driver circuit. The simulation data of the new circuit show that the slew rate and the gate-off state fluctuation are improved, so the circuit can work reliably.

AND Gate PDP의 기체방전구조 개선 (An Improvement of the Gas Discharge Structure of the AMD Gate PDP)

  • 염정덕
    • 조명전기설비학회논문지
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    • 제18권5호
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    • pp.42-47
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    • 2004
  • 본 연구는 기존에 제안한 방전 AND gate PDP의 문제점을 개선한 연구결과로서 AND gate를 구성하는 DC 방전의 극성을 반대로 설계하여 인접 주사전극에 대한 cross talk 문제를 개선하였다. 또한 기존의 AND gate의 동작이 공간전하에 의한 방전의 비선형성에 의존한 것과는 달리 본 연구에서 제안한 AND gate는 방전 회로에 따라 인가전압이 변화하는 것을 이용한 NOT 논리를 AND gate에 부가하여 동작이 한층 안정해 졌다. 실험 결과4개의 수평 주사전극에 대해 선택적인 어드레스 방전이 가능하였으며 각각 34V와 70V의 AND 방전 및 Data 방전의 동작마진을 얻을 수가 있었다.

도가(道家)의 기혈(氣穴)과 한의학(韓醫學)의 명문사상(命門思想) (A Gi-point in Taoists and the conception of Life Gate in Korean medicine)

  • 전학수;노영균
    • 대한한의정보학회지
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    • 제14권2호
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    • pp.47-57
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    • 2008
  • This paper aims at the comparative study of practicing Buddhism and Taoism related to "life gate". The term "life gate", as a physiological entity of disputed morphological identity, first appears in The Inner Canon where it refers to the eyes. Reference to a "life gate" as an internal organ body first appears in The Classic of Difficult Issues which states, "The two kidneys are not both kidneys' The left one is the kidney, and the right is the life gate." Successive scholars refers to life gate as a gi point of Taoists.. The question of the life gate invited little discussion until the Myeong and Cheong Dynasty, when various different theories were put forward. Especially Jin Sa-taek says "life gate" is the governor of the twelve place in the human body, throwing light on the meaning of it. Not that life gate denotes a local point, it does a system of life gate. Generally speaking, life gate designates cinnabar field. I think that the human body produces essence by way of life gate. That is, the human body is unified by the system of life gate. Life gate is not only the source of infusing the engine of the human body with vital energy but also as well as gi-point.

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