Journal of the Korean Vacuum Society (한국진공학회지)

The Korean Vacuum Society (한국진공학회)
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The Electrical, Optical and Structural Characteristics of ITO Films Formed by RF Reactive Magnetron Sputtering

저온 스퍼터링법으로 증착된 ITO박막의 온도 변화에 따른 구조, 표면 및 전기적 특성

  • 이석열 (LG 디스플레이 구미분석팀) ;
  • 최재하 (LG 디스플레이 구미분석팀) ;
  • 김지수 (LG 디스플레이 구미분석팀) ;
  • 정재학 (LG 디스플레이 구미분석팀) ;
  • 이임수 (LG 디스플레이 구미분석팀) ;
  • 김재열 (LG 디스플레이 구미분석팀)
  • Received : 2010.10.07
  • Accepted : 2010.11.11
  • Published : 2011.01.30
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Abstract

We investigated the structural, electrical and optical characteristics of thin films with ITO deposited by a low temperature RF reactive magnetron sputtering. The deposited thin films were annealed for 2 hours at various temperatures of $50^{\circ}C$, $100^{\circ}C$, $150^{\circ}C$, $200^{\circ}C$ and $250^{\circ}C$ and were analyzed by using X-ray diffractometer, scanning electron microscopy and 4 point probe. The films annealed at temperatures higher than $150^{\circ}C$ were found to be crystallized and their electrical resistance were decreased from $40{\Omega}cm$to $18{\Omega}cm$. The optical transmittance of the film annealed at $150^{\circ}C$ was increased by over 87% in the 450 nm ~ 900 nm wavelength range. Our results indicate that the films with ITO deposited at even a low temperature can show better optical and electrical properties through a proper heat treatment.

라디오파 반응성 마그네트론 스퍼터링 방법으로 성장된 ITO박막의 열처리에 따른 표면구조, 결정, 전기 및 광학적 특성을 조사하였다. 저온에서 증착한 시료를 챔버에서 $50^{\circ}C$, $100^{\circ}C$, $150^{\circ}C$, $200^{\circ}C$, $250^{\circ}C$로 2시간 동안 열처리하였다. 열처리에 따른 박막의 결정구조, 전기 및 광학적 특성은 X-선회절 장치, 전자주사현미경, 원자현미경, 저항 측정기를 사용하여 조사하였다. 열처리 온도 $150^{\circ}C$에서 450~900 nm 파장의 평균 투과율이 87% 이상 되었으며, 동일 온도 이상에서 ITO박막의 결정이 형성되었고, 저항이 $18{\Omega}cm$로 감소함을 알 수 있었다. 실험결과로 부터 저온 증착된 ITO박막의 전기 및 광학적 특성 향상을 위해서는 적정온도 이상에서의 열처리가 필요하다는 결론을 얻었다.

Keywords

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